Veeco 是全球研究和行業(yè)原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng)的先進(jìn)供應(yīng)商，提供可訪問、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠并具有原子量級準(zhǔn)確性的綜合服務(wù)和多功能交鑰匙系統(tǒng)。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah? 系列薄膜沉積工具展示了這些能力。
Savannah? 已成為全球大學(xué)參與原子層沉積 (ALD) 并尋找經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且穩(wěn)健平臺的研究人員的首選系統(tǒng)。在過去十年中，我們已經(jīng)交付了數(shù)百個(gè)此類系統(tǒng)。Savannah? 對前體的高效使用和節(jié)能功能大幅降低了操作薄膜沉積系統(tǒng)的成本。
Savannah? 配備高速氣動(dòng)脈沖閥，可實(shí)現(xiàn)我們獨(dú)特的 Exposure Mode?，用于超高縱橫比基質(zhì)的薄膜沉積。這種經(jīng)驗(yàn)證的精密薄膜涂層方法可用于沉積橫向比大于 2000：1 的基質(zhì)上的保形、均勻薄膜。Savannah? 有三種配置：S100、S200 和 S300。Savannah? 能夠保持不同尺寸的基質(zhì)（S300 高達(dá) 300mm）。Savannah? 薄膜沉積系統(tǒng)配備加熱前體線和增加 很多 6 條線的選項(xiàng)。Savannah? 能夠處理氣體、液體或固體前體。
| 基質(zhì)尺寸 | Savannah S100： 很多 100 mm Savannah? S200： 很多 200 mm Savannah? S300： 很多 300 mm |
| 尺寸（寬 x 深 x 高） | Savannah S100：585 x 560 x 980 毫米 Savannah? S200：585 x 560 x 980 毫米 Savannah? S300：686 x 560 x 980 毫米 |
| 柜 | 帶有可拆卸面板和可鎖定前體門的白色粉末涂層的鋼板 |
| 操作模式 | Continuous Mode?（高速）或 Exposure Mode?（超高縱橫比） |
| 功率 | 115 VAC 或 220 VAC，1500 W（不包括泵） |
| 控制 | LabView?，Windows? 7，Lenovo 筆記本電腦，USB 控制 |
| 很大基質(zhì)溫度 | S100：RT – 400 °C S200：RT – 350 °C S300：RT – 350 °C |
| 沉積均勻性 | （Al2O3) < 1% (1σ) |
| 周期時(shí)間 | 每周期 <2 秒（AL2O3在 200 °C 下） |
| 真空泵 | Alcatel 2021C2 – 14.6 CFM |
| 兼容性 | 潔凈室級別 100 兼容 |
| 合規(guī)性 | CE、TUV、FCC |
| 前體輸送系統(tǒng)，端口 | 2 線標(biāo)準(zhǔn)， 很多 6 條線可用 每條線都適合固體、液體和氣體前體 線可獨(dú)立加熱至 200 °C |
| 前體輸送系統(tǒng)，閥門 | 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)高速原子層沉積 (ALD) 閥，響應(yīng)時(shí)間 10 毫秒 |
| 前體氣瓶 | 獨(dú)立加熱 50 ml 不銹鋼氣瓶，更大氣瓶可選 |
| 承載器/排氣氣體 | N2質(zhì)量流量控制，100 SCCM |
| 選項(xiàng) | 低蒸汽壓力輸送 (LVPD) 系統(tǒng) 臭氧發(fā)生器 用于晶片盒或 3D 物體的圓頂蓋 手套箱接口 原位橢圓偏振術(shù) 原位石英晶體微平衡 (QCM) 自組裝單分子膜 (SAM) 顆粒涂層 |
